Танталовый лист 3х40х100 мм ТВЧ в Твери

При работе с танталовым листом больших размеров необходимы меры безопасности, включающие использование защитных перчаток, очков и спецобуви. При механической обработке требуется система вентиляции для удаления пыли. Подъем и перемещение листов должны осуществляться с использованием соответствующего подъемного оборудования.

Для оборудования, работающего с фосфорной кислотой высокой концентрации (85%), лучше всего подходит танталовый лист марки ТВЧ. Его высокая чистота и присущая танталу пассивность обеспечивают превосходную коррозионную стойкость в горячей концентрированной фосфорной кислоте.

Твердость по Виккерсу для танталового листа марки ТВ-5 (тантал-вольфрамовый сплав с 5% вольфрама) обычно составляет от 80 до 120 HV. Это значение выше, чем у чистого тантала (ТВЧ), что обусловлено упрочняющим эффектом вольфрама.

В области тонких пленок для оптики танталовый лист имеет применение для создания высококачественных антиотражающих, защитных и интерференционных покрытий. Его стабильность, высокая прозрачность в видимом спектре (в виде оксида Ta2O5) и возможность точного контроля толщины пленки делают его востребованным материалом.

Танталовый лист открывает возможности для создания бионических протезов благодаря своей исключительной биосовместимости и инертности к биологическим средам. Из него могут быть изготовлены опорные конструкции, имплантаты и соединительные элементы, обеспечивающие долгосрочную функциональность и отсутствие отторжения организмом.

Танталовый лист, включая марку ТВ-10, не обладает стойкостью к фтористоводородной кислоте, даже при низких концентрациях (5%). Фтористоводородная кислота активно растворяет защитную оксидную пленку тантала, приводя к его быстрому разрушению. Применение тантала в таких средах не рекомендовано.

Для использования в качестве фольги для конденсаторов подходит танталовый лист марки ТВЧ толщиной 0.1 мм и тоньше. Его высокая чистота тантала обеспечивает низкие токи утечки и стабильные диэлектрические свойства после формирования анодного оксидного слоя, что критично для электронных компонентов.